En el vibrante y competitivo mundo de los semiconductores, el ‘tigueraje’ de la innovación nunca se detiene. Mientras las fábricas apenas comienzan a integrar la sofisticada tecnología High-NA EUV, los cerebritos de ASML y ZEISS ya están con la mente puesta en el próximo gran salto: Hyper-NA. Esta carrera incansable por reducir el tamaño de los circuitos es la ‘vaina’ que impulsa la electrónica moderna, y como bien sabemos, en este juego, el que se duerme, pierde. La noticia, que según Reuters se hizo eco este 8 de octubre de un estudio revisado por pares, nos pone al día con el futuro de la fabricación de chips.
Para entender dónde nos estamos metiendo con Hyper-NA, es clave mirar primero el presente de la litografía EUV. La tecnología High-NA, que permite imprimir patrones aún más pequeños en las obleas de silicio, está apenas empezando su despliegue. Empresas como Intel ya la están utilizando en la fabricación de ciertas capas para sus procesadores Panther Lake. Otros gigantes de la talla de SK Hynix, Samsung y TSMC, según la agencia de noticias, tienen sus miras puestas en 2028 o 2030 para incorporarla plenamente en su producción. Y es que no es cualquier ‘corito’: estamos hablando de máquinas que pueden costar ‘un viaje de’ hasta 400 millones de dólares.
El nombre del juego es “apertura numérica”, y con Hyper-NA, los ingenieros de ASML y ZEISS buscan llevarla al límite. Mientras High-NA trabaja con una apertura de 0,55, la nueva propuesta aspira a alcanzar, por lo menos, 0,75. Este incremento no es un ‘chiste’, ya que promete una mejora significativa en la resolución, permitiendo pasar de un ‘half-pitch’ de unos 8 nanómetros a unos impresionantes 5 nanómetros. Es una proeza de ingeniería óptica que, de lograrse, nos acercaría a chips con una densidad de transistores que hoy parecen ciencia ficción, aunque es vital recordar que aún estamos en fase de investigación y no de comercialización.
Lo ‘bacano’ de esta nueva propuesta es que no todo tendría que ser inventado de cero. El estudio científico que la detalla sugiere que ASML podría reutilizar sin mayores modificaciones su ya probada fuente de luz EUV, y ZEISS ya tiene la capacidad para fabricar los espejos de precisión extrema que se necesitan. La arquitectura base de la luz ultravioleta extrema, que no usa lentes convencionales sino espejos ultradirectivos, se mantendría intacta, así como la longitud de onda de 13,5 nanómetros. Además, se apunta a que el equipo resultante no sería mucho más grande que la actual High-NA, que ya tiene un tamaño que se aproxima al de una ‘guagua’ de dos pisos.
Sin embargo, como en toda innovación de este calibre, la ‘vaina’ tiene sus bemoles. Cuanto mayor es la apertura numérica, menor es la profundidad de foco, lo que significa que la máquina tiene menos margen para mantener la imagen enfocada con precisión sobre la oblea. A esto se suman los desafíos con las máscaras que definen los circuitos y la exigencia en los materiales sensibles a la luz. Son problemas complejos que requieren soluciones robustas y reproducibles para poder pasar del laboratorio a la producción industrial sin que el ‘tigueraje’ se complique.
Y para que no se nos olvide que la rueda de la innovación sigue girando, los autores del estudio ya están pensando en lo que vendría después de Hyper-NA. Esta tecnología busca estirar al máximo las capacidades de la litografía EUV actual sin cambiar la fuente de luz. Pero para ir más allá de ese límite, es muy probable que se necesite una longitud de onda aún menor, algo que todavía está en los planos académicos. Es la prueba fehaciente de que en este sector, las decisiones que marcan las futuras generaciones se toman con décadas de antelación, un ‘klk’ que mantiene a todo el mundo a la expectativa.
Esta constante búsqueda de lo más pequeño y eficiente no solo redefine los límites de lo posible en tecnología, sino que también subraya la importancia de la inversión en investigación y desarrollo. Para República Dominicana y el resto del mundo, estos avances son la base de los dispositivos que usaremos en el futuro, desde celulares hasta supercomputadoras. ¡Así es que se mueve el mundo de la tecnología, señores!
Si te ha gustado este artículo, ¡compártelo con tus amigos, o déjanos un comentario!
Ingeniero de Sistemas especializado en Inteligencia Artificial y Automatización de Procesos. Con una trayectoria enfocada en la convergencia entre tecnología de vanguardia y comunicación digital, Ramón lidera la implementación de modelos generativos aplicados al periodismo dominicano. Su trabajo garantiza que la información que llega a la diáspora no solo mantenga nuestra identidad “del patio”, sino que cumpla con los más altos estándares de veracidad y optimización técnica de la web moderna (2026).
