La ‘vaina’ más ‘jevi’: Chips y la magia de escribir ‘El Señor de los Anillos’ en un filo de papel

¡Klk, mi gente! Si pensábamos que la tecnología ya lo había dado todo, coño, esta vaina de los chips nos demuestra que siempre hay algo más jevi. La maquinaria de fotolitografía de ultravioleta extremo (UVE) que diseña y fabrica ASML es, sin exagerar, una de las creaciones más bacanas y complicadas del ser humano. Según la noticia, estos equipos son los responsables de que los Chips de nuestros teléfonos, ordenadores y servidores de Inteligencia Artificial sean tan avanzados, como sacados de una película de ciencia ficción.

La historia de esta tecnología es digna de contarse. A principios de los 90, los ingenieros de ASML creían que era una misión imposible hacer que los UVE funcionaran, una verdadera locura. Pero en el 97, un tal Jos Benschop, el líder del departamento de investigación, se metió de lleno a reevaluar la situación, y ¡zas!, la cosa dio un giro. Se dio cuenta de que la compañía alemana Zeiss era capaz de fabricar los espejos súper complejos que se necesitaban para manejar la luz ultravioleta, y así arrancó la magia que hoy tenemos.

¿Y cuál es el truco, tú dirás? La luz, mi hermano, pero no cualquier luz. Hablamos de una luz ultravioleta con una longitud de onda tan pero tan minúscula que podrías escribir la biblia completa de ‘El Señor de los Anillos’ en el filo de una hoja de papel. ¡Imagínate esa vaina! La noticia asegura que, si a los ingenieros de ASML les diera la gana, lo podrían hacer con la misma tecnología que usan para meter miles de millones de transistores en un chip. Eso es tener la precisión ‘en la venas’, de verdad.

La elección de esa luz no fue un relajo, no. Aclara el reporte que los ingenieros involucrados en su puesta a punto tenían varias opciones: 13,5 nm, 11,4 nm, 6,6 nm y 4,8 nm. Las últimas dos longitudes de onda finalmente se descartaron por problemas con los materiales fotorresistentes orgánicos, y la de 11,4 nm porque requería utilizar berilio en los espejos, un elemento químico tóxico que nadie quiere cerca. Al final, la luz de 13,5 nm fue la que se quedó, usando molibdeno y silicio en los espejos, que no plantean ningún dolor de cabeza.

Este nivel de precisión es una verdadera obra de arte dominicana en ingeniería, una vaina que uno dice ‘¿cómo lo hacen?’. Para pulir los espejos, Zeiss utiliza iones de argón y otros elementos, capa por capa, a nivel atómico. Luego, con una herramienta de análisis subnanométrico, son capaces de encontrar y corregir cualquier defectico con una precisión inferior a un nanómetro. Eso es como buscar una aguja en un pajar y encontrarle el ojo, ¡qué jevi!

Actualmente, los pesos pesados de la industria de semiconductores como TSMC, Intel, Samsung, SK hynix y Micron Technology están utilizando estas máquinas UVE con 13,5 nm. Incluso los equipos de alta apertura (High-NA) usan la misma luz, pero con un sistema óptico que trabaja con un valor de apertura de 0,55 frente al 0,33 de la tecnología UVE convencional, lo que les da una resolución de otro nivel. Esto es como tener una cámara con un lente más nítido, ¡una vaina de verdad!

Y la cosa no se detiene ahí, ¡no señor! Según Martin van den Brink, exdirector tecnológico de ASML, la próxima generación de equipos de fotolitografía, las máquinas Hyper-NA, también se quedarán con la luz ultravioleta de 13,5 nm. Ellos van a subir la apuesta aumentando el valor de apertura desde el 0,55 de las máquinas UVE High-NA a 0,75 en Hyper-NA, para una resolución aún más brutal. Se espera que el primer equipo de litografía UVE Hyper-NA esté listo para el 2033, confirmando que a la luz UVE de 13,5 nm le queda cuerda para rato en este viaje tecnológico.

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